Apparaten bouwen op atomaire schaal
Onderzoek & Wetenschap 11/02/2021 8:29:08
TU Eindhoven zet een ruimtelijke atomic layer deposition hub op, om deze technologie samen met onder meer Levitech, SoLayTec, SALD, VDL-ETG, ASM en Chipmetrics te verbeteren.
Uitbouw internationale provider van total connectivity oplossingen
Tracering aardbeien Coöperatie Hoogstraten met visie en RFID
Privacy-vriendelijke data-analyse technologieën in ontwikkeling
Halfgeleider qubits schalen in twee dimensies
Zelfhelende TNO-software ingezet voor cyberbeveiliging
Europees miljoenenproject ‘inspireert’ vooruitgang in fotonica
>> Meer verwant nieuwsThe future of smart manufacturing with IIOT
Virtueel online event
donderdag 15 april 2021
Smart Electrical Grid & Heat Grid Buildings
Live Webinar
van 21/04/2021 tot 28/04/2021
CE-machinerichtlijn 2006-42-EG
Online cursus IE-net
van 27/04/2021 tot 6/05/2021
EPLAN Virtual Fair
Online
van 28/04/2021 tot 29/04/2021
Grand Paris Express
Live Webinar
dinsdag 4 mei 2021
Sensor+Test 2021
Online event
van 4/05/2021 tot 6/05/2021
(8/4) Eerste groene waterstoffabrieken North Sea Port in ontwerpfase
(7/4) Hugo Thienpont: ”Over fotonica en jong bloed” - topingenieur
(7/4) Elektronenmicroscopie maakt 20 keer snellere beeldvorming mogelijk
(6/4) UHasselt legt laatste hand aan diamantgebaseerde kwantummagnetometer
(1/4) Batterij krijgt hoge actieradius en snelle oplaadtijd
(31/3) Odysseusprogramma brengt 13 toponderzoekers naar Vlaanderen
>> Meer blikvangersENGINEERINGNET.BE - Het plaatsen van componenten ter grootte van een nanometer in microchips is alleen mogelijk met nauwkeurige fabricagetechnieken, zoals atomic layer deposition (ALD).
Om deze atoom-voor-atoom-opbouwtechniek te gebruiken voor het maken van apparaten op grotere schaal, zoals beeldschermen en zonnecellen, heeft ALD een ruimtelijke upgrade nodig, aldus TU/e-onderzoekers Bart Macco en Erwin Kessels.
ALD vindt plaats in een ruimte onder vacuümomstandigheden waarbij de atomen worden afgezet op een beginlaag of substraat. Dit substraat wordt blootgesteld aan chemische reactanten in een gas, en sommige reactanten hechten zich aan het substraat.
Ongebruikte reactanten en bijproducten worden vervolgens verwijderd voordat de volgende chemische reactant wordt geïntroduceerd en bovenop de laag eronder wordt afgezet.
Deze methode is echter te langzaam voor de productie van grote volumes van andere apparaten met grote oppervlakken zoals beeldschermen.
"Bij ruimtelijke ALD worden lagen veel sneller gecreëerd door het substraat door verschillende zones van de reactor te laten ‘vliegen’, waarbij elke zone verschillende gassen of reactanten bevat", aldus Macco. Het ‘vliegen’ van het substraat maakt snellere afzetting van lagen mogelijk, met behoud van de nauwkeurigheid.
Macco: "We willen ruimtelijke ALD gebruiken om een breder scala aan complexe materialen te deponeren voor nieuwe toepassingen. Dat kan gaan om het opbouwen van lagen op flexibele of poreuze substraten. Er moeten nog veel dingen worden opgelost, maar het is een spannende uitdaging.”
Veel Nederlandse bedrijven werken aan ruimtelijke ALD-apparatuur, zoals Levitech, SoLayTec, SALD, Smit Thermal Solutions, VDL-ETG, TNO en SALDtech. Andere stakeholders zijn ASM, Chipmetrics en J.A. Woollam.
Dankzij een subsidie van 700.000 euro van de Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek kunnen Macco en Kessels met deze bedrijven samenwerken en een hub voor ruimtelijke ALD-innovatie oprichten aan TU/e.
Dit project omvat onder meer de installatie van een ruimtelijk ALD-apparaat dat is ontwikkeld door het bedrijf SALD. Het instrument is een speciaal R&D-systeem dat gemakkelijk is aan te passen om de invloed van verschillende factoren op het ruimtelijke ALD-proces te bestuderen. << (Lydia Heida) (foto: TU Eindhoven)