Apparaten bouwen op atomaire schaal
Onderzoek & Wetenschap 11/02/2021 8:29:08
TU Eindhoven zet een ruimtelijke atomic layer deposition hub op, om deze technologie samen met onder meer Levitech, SoLayTec, SALD, VDL-ETG, ASM en Chipmetrics te verbeteren.
Magnetisch racebaangeheugen voor snelle gegevensopslag
Flanders Make ontwikkelt eerste zelfrijdende tractor (2) - artikel
Kunstmatige intelligentie: nieuwer is niet altijd beter - opinie
Vraag naar RFID-technologie vanuit betonindustrie in de lift
Geluidscamera’s met AI wereldwijd beschikbaar
Flanders Make ontwikkelt drones voor logistiek en landbouw
>> Meer verwant nieuwsBelgian Offshore Days
Ostend Sea P’lace
van 17/03/2021 tot 18/03/2021
Ventilatie van gebouwen in de strijd tegen COVID-19
Live Webinar
dinsdag 23 maart 2021
Panel Building. Made Smarter
Online event
dinsdag 23 maart 2021
METAV Digital
online
van 23/03/2021 tot 26/03/2021
EEX-ATEX
Online cursus IE-net
van 30/03/2021 tot 31/03/2021
Hannover Messe
Hannover
van 12/04/2021 tot 16/04/2021
(5/3) Computersimulaties in 4D maken hartchirurgie veiliger
(3/3) Windparken profiteren van sterke stroming in lagere atmosfeer
(2/3) Lockheed Martin gunt Feronyl contract binnen het F-35 programma
(1/3) Start bouw allereerste Vlaamse opleidingscentrum voor farma en biotech
(25/2) Nieuw platform biedt correctere berekening CO2-voetafdruk
(25/2) ABO-Group neemt Frans sonisch boorbedrijf over
>> Meer blikvangersENGINEERINGNET.BE - Het plaatsen van componenten ter grootte van een nanometer in microchips is alleen mogelijk met nauwkeurige fabricagetechnieken, zoals atomic layer deposition (ALD).
Om deze atoom-voor-atoom-opbouwtechniek te gebruiken voor het maken van apparaten op grotere schaal, zoals beeldschermen en zonnecellen, heeft ALD een ruimtelijke upgrade nodig, aldus TU/e-onderzoekers Bart Macco en Erwin Kessels.
ALD vindt plaats in een ruimte onder vacuümomstandigheden waarbij de atomen worden afgezet op een beginlaag of substraat. Dit substraat wordt blootgesteld aan chemische reactanten in een gas, en sommige reactanten hechten zich aan het substraat.
Ongebruikte reactanten en bijproducten worden vervolgens verwijderd voordat de volgende chemische reactant wordt geïntroduceerd en bovenop de laag eronder wordt afgezet.
Deze methode is echter te langzaam voor de productie van grote volumes van andere apparaten met grote oppervlakken zoals beeldschermen.
"Bij ruimtelijke ALD worden lagen veel sneller gecreëerd door het substraat door verschillende zones van de reactor te laten ‘vliegen’, waarbij elke zone verschillende gassen of reactanten bevat", aldus Macco. Het ‘vliegen’ van het substraat maakt snellere afzetting van lagen mogelijk, met behoud van de nauwkeurigheid.
Macco: "We willen ruimtelijke ALD gebruiken om een breder scala aan complexe materialen te deponeren voor nieuwe toepassingen. Dat kan gaan om het opbouwen van lagen op flexibele of poreuze substraten. Er moeten nog veel dingen worden opgelost, maar het is een spannende uitdaging.”
Veel Nederlandse bedrijven werken aan ruimtelijke ALD-apparatuur, zoals Levitech, SoLayTec, SALD, Smit Thermal Solutions, VDL-ETG, TNO en SALDtech. Andere stakeholders zijn ASM, Chipmetrics en J.A. Woollam.
Dankzij een subsidie van 700.000 euro van de Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek kunnen Macco en Kessels met deze bedrijven samenwerken en een hub voor ruimtelijke ALD-innovatie oprichten aan TU/e.
Dit project omvat onder meer de installatie van een ruimtelijk ALD-apparaat dat is ontwikkeld door het bedrijf SALD. Het instrument is een speciaal R&D-systeem dat gemakkelijk is aan te passen om de invloed van verschillende factoren op het ruimtelijke ALD-proces te bestuderen. << (Lydia Heida) (foto: TU Eindhoven)