ENGINEERINGNET.BE - Plasma bestaande uit vloeibare microscopisch kleine tindruppels die geproduceerd zijn met behulp van een laser, genereert het extreem ultraviolet (EUV) licht dat gebruikt wordt in de modernste EUV-lithografie.
Het gebruik van dit extreem korte EUV-licht met een golflengte van 13,5 nanometer maakt de voortzetting mogelijk van de miniaturisering van halfgeleiderapparatuur, volgens de wet van Moore.
Met dit project willen onderzoekers van het Nederlandse instituut voor nanolithografie ARCNL en de Vrije Universiteit Amsterdam achterhalen wat de optimale lasergolflengte is om dit soort plasma aan te drijven, door de fundamentele grenzen te verkennen van de omzetting van 'drive' laserenergie naar bruikbaar EUV-licht.
Hiervoor ontwikkelen ze een krachtige laser met een lage herhaalfrequentie die in het laboratorium in vaste toestand kan worden gebruikt, en die flexibel is qua golflengte en spatiotemporele stralingsprofiel. Deze laser zorgt voor microscopische druppels tinplasma die EUV-licht produceren.
De kosten voor het project bedragen in totaal 775.000 euro. Dit geld is afkomstig van de Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek.
Projectleider Oscar Versolato: “Dankzij deze financiering kunnen we onderzoek doen naar het gebruik van vastestoflasers om licht te produceren aan de hand van plasma, oftewel, fundamenteel onderzoek dat direct toepasbaar is.”
