ENGINEERINGNET.BE - Door hun technische expertise te combineren, willen TNO en ASML schaalbare volumeproductie van fotonische chips mogelijk maken via oplossingen voor lithografie, procescontrole en metrologie.
Het nieuwe partnerschap omvat een gefaseerde aanpak waarbij ASML lithografieapparatuur, zoals DUV- en I-Line-scanners, inzet binnen de fabriek.
Deze gedeelde R&D-omgeving faciliteert technische workshops en gezamenlijke innovatieactiviteiten, zodat ASML de infrastructuur van TNO kan benutten voor interne ontwikkeling en klantdemonstraties.
Zodra de fabriek operationeel is, maakt deze de volledige productie van geavanceerde indiumfosfide (InP)-fotonische chips op een 6-inch waferformaat mogelijk.
Daarnaast werken TNO, TU Eindhoven en UTwente binnen het gezamenlijk opgerichte Photonic Integration Technology Centre aan het omzetten van innovatieve ontwerpen in praktijktoepassingen.
De nieuwe, gestructureerde samenwerking met ASML is bedoeld om de operationele prestaties te verbeteren en Europa wereldwijd voorop te laten blijven lopen in geïntegreerde fotonica.
Stanislas Baron, senior vice-president bij ASML: "Het opschalen van fotonische chiptechnologie vereist een naadloze overgang van grensverleggend onderzoek naar volumeproductie".
"Door onze lithografiesystemen te integreren in de fabriek van TNO overbruggen we die kloof. Deze samenwerking biedt ons de ideale omgeving om onze processen voor geïntegreerde fotonica te optimaliseren, zodat de marktintroductie van deze technologie sneller verloopt."
