ENGINEERINGNET.BE - De samenwerking tussen imec, onderzoeks- en innovatiehub op het vlak van nano-elektronica en digitale technologie, en ASML, ontwikkelaar en leverancier van lithografiesystemen voor chipproductie, bouwt verder op een lange traditie van gezamenlijk onderzoek.
Beide organisaties zijn al bijna 30 jaar partners. En in 2014 werd de strategische samenwerking naar een hoger niveau getild met de oprichting een gemeenschappelijk onderzoekscentrum, het Advanced Patterning Center, om lithografietechnologie te optimaliseren. Die samenwerking wordt nu verder uitgebreid.
In de loop van 2019 zal ASML in de imec cleanroom één van hun meest geavanceerde EUV scanners (NXE:3400B) installeren. Op die manier krijgen de imec-onderzoekers en partners toegang tot de nieuwste technologie voor EUV-lithografie.
Met een vermogen van 250 Watt behaalt het toestel bovendien een lang beoogd streefdoel in productiviteit van 125 wafers (siliciumschijven waarop microchips worden geproduceerd) per uur, wat deze nieuwste generatie EUV lithografietoestellen geschikt maakt voor de massaproductie van chips.
Ter vergelijking: bij de eerste generatie NXE:3300 toestellen lag het aantal wafers dat verwerkt wordt op 21 per uur. Door intensief gezamenlijke onderzoek zijn ze erin geslaagd om hier de noodzakelijke vooruitgang te boeken.
Daarnaast wordt de samenwerking met ASML ook uitgebreid met een gemeenschappelijk onderzoekslab in Veldhoven. Daar zullen onderzoekers van imec en ASML experimenteren met een volgende generatie van EUV-lithografie die noodzakelijk is om de basisbouwblokken van chips, transistoren, nog kleiner te maken en dus nog krachtiger chips te bouwen dan vandaag mogelijk is.
Dit onderzoek zal gebeuren op een nieuw EUV-lithografiesysteem met hogere Numerische Apertuur (NA). Omdat systemen met een hogere NA het EUV-licht vanuit een bredere invalshoek kunnen projecteren op de wafer, kunnen ze nog fijnere patronen creëren.
