ENGINEERINGNET.BE - Dergelijke bronnen van extreem ultraviolet licht (EUV) met een golflengte van slechts 13,5 nanometer drijven de halfgeleiderindustrie aan, waardoor fabrikanten chips kunnen produceren met steeds kleinere afmetingen voor meer snelheid en efficiëntie.
De golflengte bepaalt de grootte en de kwaliteit van de functies op computerchips. EUV-lithografie wordt aangedreven door licht dat wordt geproduceerd in de interactie tussen hoogenergetische CO2-gaslaserpulsen en gesmolten tinnen microdruppels.
Versolato zal de complexe fysica van het lichtproducerende plasma onderzoeken en leren hoe nieuwe lasertechnologie het best kan worden gebruikt om het plasma aan te drijven en welk plasmarecept het best werkt.
Het onderzoek in het MOORELIGHT project strekt zich uit van vloeistofmechanica, tot de fysica van heet en dicht plasma, tot aan de kwantummechanica die ten grondslag ligt aan het genereren van EUV-licht in tinionen.
Versolato gaat fundamenteel natuurkundig onderzoek combineren met duidelijke toepassingsperspectieven. Bij de uitvoering van dit onderzoek zal hij profiteren van de nieuwe meettechnieken en de geavanceerde lasersystemen en experimentele opstellingen die de afgelopen jaren bij het Advanced Research Center for Nanolithography in Nederland zijn ontwikkeld.
Versolato is groepsleider bij ARCNL en universitair hoofddocent natuurkunde aan de Vrije Universiteit Amsterdam. De wetenschapper heeft van de Europese Onderzoeksraad een Consolidator Grant van twee miljoen euro toegewezen gekregen voor dit project.
