ENGINEERINGNET.BE - Lithografiemachines staan centraal in het maken van microchips die nodig zijn voor bijna alle elektronische apparaten.
Om de kleinste chips te maken, hebben deze machines nauwkeurig ontworpen lenzen, spiegels en lichtbronnen nodig.
"Hiervoor konden we alleen kijken naar de hoeveelheid licht die het plasma produceerde, maar om het chipfabricageproces verder te verbeteren, willen we ook de kleuren van dat licht en de grootte van de bron bestuderen", vertelt Muharrem Bayraktar, universitair docent bij de XUV Optics Group van UTwente.
Een plasmabron straalt extreem ultraviolet licht uit dat nodig is voor de productie van chips. Die plasmabron wordt gemaakt door lasers op metalen druppels te richten.
Sets speciale spiegels richten dit licht op een silicium wafer om de kleinst denkbare microchips te maken. "We willen het plasma zo klein mogelijk maken. Te groot en je 'verspilt' veel licht omdat de spiegels niet al het licht kunnen opvangen", zegt Bayraktar.
Naast de grootte van de plasmabron is ook de kleur van het licht belangrijk. "Het plasma zendt niet alleen extreem ultraviolet licht uit, maar ook andere kleuren", zegt Bayraktar.
Met dit nieuwe instrument kunnen de onderzoekers tegelijkertijd naar de grootte en de kleur kijken. Dit maakt het mogelijk om de relatie tussen de grootte van een plasmabron en de kleur van het licht te onderzoeken.
Voor dit nieuwe instrument gebruiken de onderzoekers een combinatie van kegelvormige zoneplaten en transmissieroosters. Beide zijn geproduceerd door UTwente.
Kegelvormige zoneplaten zijn gespecialiseerde optische componenten die extreem ultraviolet licht zo aanpassen dat ze de plasmabron nauwkeurig afbeelden. Het transmissierooster breekt het licht in losse kleuren, waardoor het mogelijk is om ze afzonderlijk te meten.
Dit onderzoek is een samenwerking tussen ARCNL en de XUV Optics Group.
