ENGINEERINGNET.BE - imec heeft een routekaart uitgetekend om de chipindustrie de komende jaren richting ångström‑dimensies te helpen bewegen.
Een ångström is tien keer kleiner dan een nanometer en bevindt zich op de schaal van atoomafstanden.
Lithografie speelt in die schaalverkleining een cruciale rol: in dit proces worden miljarden minuscule patronen tegelijk op een siliciumplaat ‘geprint’ met licht.
Vandaag gebeurt dat met EUV‑lithografie, waarbij zeer fijne structuren aangebracht worden met behulp van extreem ultraviolet licht.
De resolutie van die patronen hangt af van twee factoren: de golflengte van dat EUV-licht (13.5 nanometer) en de numerieke apertuur (NA) - een maat voor hoe de lenzen in het toestel het EUV-licht opvangen en focussen. Hoe hoger die NA, hoe scherper de details kunnen worden gemaakt.
Door de optica radicaal te herdenken, ontwikkelde ASML een nieuwe generatie EUV‑machines met een hogere NA. High NA EUV is het ingenieus samenspel van extreem krachtige lasers om EUV‑licht op te wekken, perfect gepolijste spiegels om het licht met ongeziene precisie te weerkaatsen en andere grensverleggende technologieën.
De machine (van 150 ton) werd sinds 2024 verder op punt gesteld in het gezamenlijke High NA EUV‑lab van ASML en imec in Veldhoven. Nu is de high NA EUV-technologie klaar om in Leuven geïnstalleerd te worden.
In de cleanroom van imec komt het wereldwijde ecosysteem van chipfabrikanten, toestel- en materiaalleveranciers, en experten in metrologie samen om de volgende generatie chips te ontwikkelen.
Imec en zijn partners zullen er nu directe toegang krijgen tot het meest geavanceerde High NA EUV-lithografietoestel en tot een groot aantal complementaire toestellen die al eerder in de cleanroom werden geïnstalleerd.
