ENGINEERINGNET -- Het Amerikaanse Sematech en het Nederlandse onderzoeksbureau TNO kondigen een strategische samenwerking aan voor het ontwikkelen van meetstandaarden die traceerbaarheid mogelijk maken van hoeveelheden uitdamping en lekkage in halfgeleider materialen en verwerking.
Halfgeleiderproducenten worden geconfronteerd met nieuwe uitdagingen in de controle en monitoring van verontreiniging, waaronder componenten en materialen uitdamping.
Uitdamping kan een verscheidenheid aan verontreinigingen veroorzaken in halfgeleider fabricaten en daarmee veel processen beïnvloeden.
De doelstelling van het project is de ontwikkeling van metrologische procedures en richtlijnen voor het meten van apparatuur, resulterend in praktijkaanbevelingen voor de industrie, voor het meten, vergelijken en rapporteren van uitdampingsgegevens.
In de loop van het project zullen metrologische procedures voor het meten van uitdamping en de kwalificering van materialen worden gedefinieerd en gevalideerd om zodoende fabricagedefecten op nanoschaal aan te pakken.
De belangrijkste verschillen in de typen onderdelen en materialen - die momenteel de prestaties van instrumenten negatief beïnvloeden door verontreinigingen op nanoschaal vanwege uitdamping - zullen in kaart worden gebracht.
(GL) (bron: TNO, foto: Wikipedia, fototransistor)
