ENGINEERINGNET.BE - De intentieverklaring handelt over het samen zoeken naar oplossingen voor de productie en kwaliteitscontrole van materialen voor de nieuwste generatie lithografie, nl. Extreme Ultraviolet (EUV)-lithografie.
De samenwerking zal geformaliseerd worden in een joint venture met imec als minderheidsaandeelhouder.
Om steeds krachtiger chips te ontwikkelen is de chipindustrie op zoek naar manieren om de bouwstenen van de chips, de transistoren, te verkleinen waardoor er meer transistoren op eenzelfde chip kunnen.
EUV- lithografie wordt beschouwd als een veelbelovende lithografietechniek om tot nog kleinere transistoren te komen.
Met de vandaag aangekondigde samenwerking willen beide bedrijven hun expertise en sterktes samenbrengen voor de productie van fotoresists, die nodig zijn voor EUV-lithografie.
JSR zal zijn productietechnologie ter beschikking stellen van de joint venture, en zal in zijn dochterbedrijf in Leuven investeren in de uitbreiding van zijn productielijn en analyse-apparatuur.
Imec zal zijn expertise en diensten voor kwaliteitscontrole van materialen ter beschikking stellen.
De joint venture zal niet alleen eigen EUV fotoresists produceren, maar biedt ook aan andere leveranciers de mogelijkheid om EUV fotoresists te produceren op basis van hun eigen materialen.
